哈西奈德

石杉堿甲膠囊

本品主要成分哈西奈德。

本品活性成份為石杉堿甲，輔料為淀粉、乳糖、滑石粉。

天津天藥藥業股份有限公司

上海復旦復華藥業有限公司

國藥準字H12020200

國藥準字H20030621

哈西奈德涂膜劑：

本品適用于良性記憶障礙，提高患者指向記憶、聯想學習、圖像回憶、無意義圖形再認及人像回憶等能力。對癡呆患者和腦器質性病變引起的記憶障礙亦有改善作用。

本品不同劑型、不同規格的用法用量可能存在差異，請閱讀具體藥物說明書使用，或遵醫囑。 哈西奈德涂膜劑：涂于患處，每日1-2次。 哈西奈德乳膏/哈西奈德溶液：外涂患處，每日早晚各一次。

口服。一次0.1mg～0.2mg(2～4粒)，一日2次，一日量最多不超過0.45mg(9粒)，療程1-2月。或遵醫囑。

哈西奈德涂膜劑/哈西奈德乳膏： 1、對該藥過敏者。 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。 3、潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。 4、眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。 5、滲出性皮膚病。 哈西奈德溶液： 1、對該藥過敏者。 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。 3、潰瘍性病變。 4、痤瘡、酒渣鼻。 5、眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。 6、滲出性皮膚病。 7、面部不宜應用。

一般無嚴重不良反應，少數患者可有頭暈、惡心、嘔吐、出汗、便秘、失眠等，一般不需處理或減少服用劑量即可消失。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚不明確。兒童用藥：尚不明確。老年用藥：尚不明確。

哈西奈德涂膜劑：

本品適用于良性記憶障礙，提高患者指向記憶、聯想學習、圖像回憶、無意義圖形再認及人像回憶等能力。對癡呆患者和腦器質性病變引起的記憶障礙亦有改善作用。

1、少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢。 2、長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合。 3、封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。 4、經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

1、面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 2、孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 3、兒童用藥：因為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 4、老年用藥：遵醫囑。 5、藥物過量：尚不明確。

1.孕婦及哺乳期婦女慎用；2.過敏體質者慎用；3.避免與中樞神經系統抑制藥合用；4.定期檢查肝腎功能；5.出現嚴重不良反應應立即停藥。