哈西奈德

奧氮平片

本品主要成分哈西奈德。

奧氮平。

天津天藥藥業股份有限公司

江蘇豪森藥業股份有限公司

國藥準字H12020200

國藥準字H20010799

哈西奈德涂膜劑：

奧氮平用于治療精神分裂癥。初始治療有效的患者，奧氮平在維持治療期間能夠保持基臨床效果。奧氮平用于治療、重度躁狂發作。對奧氮平治療有效的躁狂發作患者，奧氮平可用于預防雙相情感障礙的復發。

本品不同劑型、不同規格的用法用量可能存在差異，請閱讀具體藥物說明書使用，或遵醫囑。 哈西奈德涂膜劑：涂于患處，每日1-2次。 哈西奈德乳膏/哈西奈德溶液：外涂患處，每日早晚各一次。

精神分裂癥： 奧氮平的建議起始劑量為10mg/天，每日一次，與進食無關。 在精神...

哈西奈德涂膜劑/哈西奈德乳膏： 1、對該藥過敏者。 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。 3、潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。 4、眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。 5、滲出性皮膚病。 哈西奈德溶液： 1、對該藥過敏者。 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。 3、潰瘍性病變。 4、痤瘡、酒渣鼻。 5、眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。 6、滲出性皮膚病。 7、面部不宜應用。

1．鎮靜作用強和抗膽堿能不良反應較多，常見有頭暈、無力、嗜睡、多汗、流涎、惡心、嘔吐、口干、便秘、體位性低血壓、心動過速。2．常見食欲增加和體重增加。3．可引起心電圖異常改變。可引起腦電圖改變或癲癇發作。4．也可引起血糖增高。5．嚴重不良反應為粒細胞缺乏癥及繼發性感染。

哈西奈德涂膜劑：

奧氮平用于治療精神分裂癥。初始治療有效的患者，奧氮平在維持治療期間能夠保持基臨床效果。奧氮平用于治療、重度躁狂發作。對奧氮平治療有效的躁狂發作患者，奧氮平可用于預防雙相情感障礙的復發。

1、少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢。 2、長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合。 3、封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。 4、經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

1、面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 2、孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 3、兒童用藥：因為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 4、老年用藥：遵醫囑。 5、藥物過量：尚不明確。

1．出現過敏性皮疹及惡性綜合征應立即停藥并進行相應的處理。2．中樞神經抑制狀態者慎用。尿潴留患者慎用。3．治療頭3個月內應堅持每1～2周檢查白細胞計數及分類，以后定期檢查。4．定期檢查肝功能與心電圖。5．定期檢查血糖，避免發生糖尿病或酮癥酸中毒。6．用藥期間不宜駕駛車輛、操作機械或高空作業。7．用藥期間出現不明原因發熱，應暫停用藥。