氧氟沙星乳膏

哈西奈德溶液

本品主要成分為氧氟沙星。其化學名為(±)-9-氟-2，3-二氫-3-甲基-10-（4-甲基-1-哌嗪基）-7-氧代-7H–吡啶并[1，2，3-de]-[1，4]苯并惡嗪-6-羧酸。

化學名稱為：16α，17-[（1-甲基亞乙基）雙（氧）]-11β-羥基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

浙江得恩德制藥股份有限公司

國藥集團三益藥業(蕪湖)有限公司

國藥準字H10960031

國藥準字H34020323

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

外用。涂于患處，一日2～3次。

外涂患處，每日早晚各一次。

對本品及氟喹諾酮類藥過敏的患者禁用。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

孕婦及哺乳期婦女用藥：在人類尚無局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。兒童用藥：應小面積，短期應用，一旦消退迅速停藥或改用其它藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。老年用藥：尚不明確。

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

1.偶有輕微刺激感。但不影響繼續治療和療效。 2.過敏反應：皮疹、皮膚瘙癢，偶可發生滲出性多形性紅斑及血管神經性水腫。

1.使用中若出現過敏癥狀應立即停藥。 2.嚴重腎功能不全者慎用。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童應在醫生指導下使用；4. 長期使用需定期檢查皮膚狀況；5. 過敏者禁用。