復方醋酸地塞米松乳膏

注射用甲磺酸左氧氟沙星

本品為復方制劑，每克含醋酸地塞米松0.75毫克，樟腦10毫克，薄荷腦10毫克

本品主要成份為：甲磺酸左氧氟沙星

天津太平洋制藥有限公司

四川百利藥業有限責任公司

國藥準字H12021026

國藥準字H20060735

用于局限性瘙癢癥、神經性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎及慢性濕疹

本品適用于敏感細菌引起的下列中、重度感染：呼吸系統感染：急性支氣管炎、慢性支氣管炎急性發作、彌漫性細菌支氣管炎、支氣管擴張合并感染、肺炎、扁桃體炎（扁桃體周圍膿腫）；泌尿系統感染：腎盂腎炎、復雜性尿路感染等；生殖系統感染：急性前列腺炎、急性附睪炎、宮腔感染、子宮附件炎、盆腔炎（疑有厭氧菌感染時可合用甲硝唑）；皮膚軟組織感染：傳染性膿皰病、蜂窩組織炎、淋巴管（結）炎、皮下膿腫、肛周膿腫等；腸道感染：細菌性痢疾、感染性腸炎、沙門菌屬腸炎、傷寒及副傷寒；敗血癥、粒細胞減少及免疫功能低下患者的各種感染；其它感染：乳腺炎、外傷、燒傷及手術后傷口感染、腹腔感染（必要時合用甲硝唑）、膽囊炎、膽管炎、骨與關節感染以及五官科感染等。

皮膚外用。直接涂于患處，每日2-3次;病情較重或慢性炎癥患者，每日5-8次或遵醫囑。

本產品應臨用現配。先用5％葡萄糖注射用或5％葡萄糖氯化鈉注射液5～10ml溶解后，再加入5%葡萄糖注射液或5%葡萄糖氯化鈉注射液100ml中靜脈滴注。本制劑專供靜脈滴注，滴注時間為每100ml至少60分鐘。本制劑不宜與其它藥物同瓶混合靜滴，或在一根靜脈輸液管內進行靜滴。推薦劑量：成人每日400mg，分2次靜滴。重度感染患者及病原菌對本品的敏感性較差者（如綠膿桿菌），每日最大劑量可增至600mg，分2次靜滴。腎功能減退者按照肌酐清除率決定用藥劑量。肌酐清除率50～80ml/min正常劑量20～49ml/min首劑400mg,以后每24小時200mg10～19ml/min首劑400mg,以后每48小時200mg

對本品成分過敏者禁用

對喹諾酮類藥物過敏者、妊娠及哺乳期婦女、18歲以下患者禁用。

用于局限性瘙癢癥、神經性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎及慢性濕疹

本品適用于敏感細菌引起的下列中、重度感染：呼吸系統感染：急性支氣管炎、慢性支氣管炎急性發作、彌漫性細菌支氣管炎、支氣管擴張合并感染、肺炎、扁桃體炎（扁桃體周圍膿腫）；泌尿系統感染：腎盂腎炎、復雜性尿路感染等；生殖系統感染：急性前列腺炎、急性附睪炎、宮腔感染、子宮附件炎、盆腔炎（疑有厭氧菌感染時可合用甲硝唑）；皮膚軟組織感染：傳染性膿皰病、蜂窩組織炎、淋巴管（結）炎、皮下膿腫、肛周膿腫等；腸道感染：細菌性痢疾、感染性腸炎、沙門菌屬腸炎、傷寒及副傷寒；敗血癥、粒細胞減少及免疫功能低下患者的各種感染；其它感染：乳腺炎、外傷、燒傷及手術后傷口感染、腹腔感染（必要時合用甲硝唑）、膽囊炎、膽管炎、骨與關節感染以及五官科感染等。

長期大量使用可繼發細菌、真菌感染、局部可發生痤瘡、酒渣樣皮炎、皮膚萎縮及毛細血管擴張，并可有瘙癢、色毒沉著、顏面紅斑、創傷愈合障礙等反應。

本品為氧氟沙星的左旋體，其抗菌活性約為氧氟沙星的兩倍，它的主要作用機理是通過抑制細菌DNA旋轉酶（細菌拓撲異構酶II）的活性，阻礙細菌DNA的復制而達到抗菌作用。本品具有抗菌譜廣、抗菌作用強的特點，對大多數腸桿菌科細菌，如大腸埃希菌、克雷白菌屬、沙雷氏菌屬、變形桿菌屬、志賀菌屬、沙門氏菌屬、枸櫞酸桿菌、不動桿菌屬以及銅綠假單胞菌、流感嗜血桿菌、淋球菌等革蘭陰性細菌有較強的抗菌活性。對部分甲氧西林敏感葡萄球菌、肺炎鏈球菌、化膿性鏈球菌、溶血性鏈球菌等革蘭陽性菌和軍團菌、支原體、衣原體也有良好的抗菌作用，但對厭氧菌和腸球菌的作用較差。

1.避免接觸眼睛和其他黏膜(如眼、鼻等)　　2.不宜大面積，長期使用。用藥1周后癥狀未解請咨詢醫師。　　3.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停用，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。　　4.如并發細菌或真菌感染，應咨詢醫生。　　5.運動員慎用。　　6.小兒避免使用。　　7.對本品過敏者慎用。　　8.本品狀態改變時慎用。　　9.請放在兒童不能接觸的地方。　　10.兒童必在成年人監護下使用。　　11.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢藥師。　　12.孕婦、哺乳期婦女慎用。

1．本制劑專供靜脈滴注，滴注時間為每100ml至少60分鐘。本制劑不宜與其它藥物同瓶混合靜滴，或在同一根靜脈輸液管內進行靜滴。2．腎功能不全者應減量或慎用，使用時參照用法用量中的詳細內容。3．有中樞神經系統疾病及癲癇史患者應慎用。4．喹諾酮類藥物尚可引起少見的光毒性反應（發生率小于0.1%）。在接受本品治療時應避免過度陽光曝曬和人工紫外線。如出現光敏反應或皮膚損傷時應停用本品。此外偶有用藥后發生跟踺炎或跟踺斷裂的報告，故如有上述癥狀發生時須立即停藥并休息，嚴禁運動，直至癥狀消失。